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技術(shù)進(jìn)展
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ICP-AES 法測(cè)定金屬硅中雜質(zhì)元素
來源：冶金分析    更新時(shí)間：2013-06-14 13:51:16    瀏覽次數(shù)：
 
        攀枝花鋼鐵研究院成勇等以HF揮發(fā)除去基體后,電感耦合等離子體光譜法(ICP-AES)對(duì)金屬硅中Fe,Al,Ti,Ca,Cu,As,Pb等23個(gè)可能共存的雜質(zhì)元素同時(shí)定量測(cè)定,并用差減法計(jì)算出基體元素硅的含量,只需一次測(cè)定即能實(shí)現(xiàn)金屬硅樣品的全分析。試驗(yàn)了共存元素間的干擾影響情況,優(yōu)選了元素分析譜線和儀器工作參數(shù),運(yùn)用同步背景校正法、K系數(shù)法來消除共存元素間干擾和試液霧化進(jìn)樣的物理化學(xué)因素影響。方法簡(jiǎn)便快捷、易于操作掌握,測(cè)定回收率、精密度、檢出限均取得了滿意結(jié)果。
 
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