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前端技術(shù)
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中科院等多方合作在三維石墨烯異質(zhì)結(jié)光電探測器研究取得進(jìn)展
來源:中國粉體技術(shù)網(wǎng)    更新時間:2017-08-10 10:28:57    瀏覽次數(shù):
 
  近日,中國科學(xué)院重慶綠色智能技術(shù)研究院微納制造與系統(tǒng)集成研究中心與香港中文大學(xué)、電子科技大學(xué)和重慶理工大學(xué)合作,在基于硅表面的三維石墨烯原位生長技術(shù)上,取得高性能異質(zhì)結(jié)光電探測器方面的研究進(jìn)展。
  利用石墨烯作為電極的肖特基結(jié)光電探測器具有暗電流低、響應(yīng)速度快和正面入射等優(yōu)勢。然而,二維石墨烯薄膜無法在硅基襯底實(shí)現(xiàn)原位生長,石墨烯電極的形成需要采用基于有機(jī)支撐材料的濕法或者干法轉(zhuǎn)移工藝,而轉(zhuǎn)移工藝不可避免的有機(jī)殘留會造成石墨烯-硅異質(zhì)結(jié)結(jié)界面的污染,降低肖特基勢壘質(zhì)量,從而影響光電探測器的光電響應(yīng);此外,二維石墨烯薄膜生長所需的金屬催化劑在轉(zhuǎn)移過程的殘留也會對器件質(zhì)量產(chǎn)生不利影響。三維石墨烯墻是由縱向生長的多層石墨烯形成的網(wǎng)格互連結(jié)構(gòu),保留了石墨烯薄膜拉曼特征峰;同時,三維石墨烯無需金屬催化,可在硅襯底實(shí)現(xiàn)原位生長,避免金屬催化劑和轉(zhuǎn)移過程有機(jī)殘留污染。
 
石墨烯納米墻及其光探測器結(jié)構(gòu)圖和光探測器低噪聲電流示意圖
石墨烯納米墻及其光探測器結(jié)構(gòu)圖和光探測器低噪聲電流示意圖
 
  該研究利用三維石墨烯墻原位生長實(shí)現(xiàn)的超潔凈硅-石墨烯界面,實(shí)現(xiàn)了高性能的光電探測器。實(shí)驗(yàn)得到肖特基結(jié)理想因子小于1.2,探測器的開關(guān)比達(dá)到2×107,響應(yīng)度大于0.57A/W,響應(yīng)時間小于25ms,3dB截止頻率大于8.5kHz,測試和計算的比探測率分別達(dá)到5.88×1013 cm Hz1/2/W 和2.27×1014 cm Hz1/2/W。
    資料來源:重慶綠色智能技術(shù)研究院

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