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| 美國科學(xué)家發(fā)現(xiàn)新型低成本石墨烯處理方法 |
| 來源：中國粉體技術(shù)網(wǎng) 更新時間：2013-12-24 09:14:43 瀏覽次數(shù)： |
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（中國粉體技術(shù)網(wǎng)/班建偉）石墨烯是由碳原子組成的二維片狀材料，因物理化學(xué)性質(zhì)獨特，已經(jīng)在許多領(lǐng)域顯示出了巨大的應(yīng)用潛力。但其許多可以預(yù)見的應(yīng)用都需要經(jīng)過復(fù)雜且昂貴的處理才能實現(xiàn)，增加了走向應(yīng)用的難度。日前，美國麻省理工學(xué)院和加州大學(xué)伯克利分校的科學(xué)家發(fā)現(xiàn)了一種簡單、廉價的處理方法，有望幫助石墨烯發(fā)揮潛力，更快走向商用。相關(guān)論文發(fā)表在近期的《自然·化學(xué)》雜志上。
在很多應(yīng)用中，純石墨烯并不是最完美的，它還缺乏一些電子設(shè)備所必需的關(guān)鍵屬性，而這只能通過增加氧原子的方式來對其進(jìn)行修改。但目前的方法存有氧原子在石墨烯表面分布情況不可預(yù)知、需經(jīng)過復(fù)雜的化學(xué)過程以及要達(dá)到700攝氏度到900攝氏度高溫等弊端。而新研究所找到的方法只需將材料暴露在50攝氏度到80攝氏度中即可，且無需額外的化學(xué)處理。
研究人員稱，與目前其他的處理工藝相比，新方法較為溫和，無需苛刻的化學(xué)處理，不會產(chǎn)生有毒害的副產(chǎn)品，相對而言是一種環(huán)境友好的處理工藝。更重要的是，該法更容易大規(guī)模應(yīng)用，讓商業(yè)化應(yīng)用更加可行。 這種低溫退火工藝能夠改變石墨烯表面氧原子的分布，讓氧原子有規(guī)律地聚集在一起，同時又會留有純石墨烯空隙，不會改變石墨烯的原有結(jié)構(gòu)，避免瑕疵。更難能可貴的是，這一切都是在保持適合的氧含量的前提下完成的。
與原來的處理方法相比，新法顯著降低了材料的電阻，這有望大幅提高其在電路和傳感器中的性能。之所以會產(chǎn)生這樣的結(jié)果，是因為新方法中氧化過后的石墨烯不但保持了氧原子的聚集，也為導(dǎo)電性能超強的純石墨烯留下了必要的空間。這些由純石墨烯構(gòu)成的“保留區(qū)”，還天然地具有量子點屬性，它可以作為高效光源，在很多領(lǐng)域獲得應(yīng)用。
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