中文字幕亚洲欧美一区_国产JIZZJIZZ免费看_亚洲av大码在线_亚洲黄色一级毛片_野花影视大全在线观看免费_欧美一区二区三区免费不卡_欧美日韩国产在线精品_国产福利盒子在线看片_精品国产人成在线_日韩欧美动漫一区在线

技術進展
您當前的位置：首頁 > 功能粉體 > 碳化硅 > 技術進展
 
單晶碳化硅磁流變拋光工藝實驗研究
來源：科技創(chuàng)新導報    更新時間：2013-06-30 17:55:16    瀏覽次數(shù)：
 
        西安工業(yè)大學王芳杰等針對傳統(tǒng)光學加工中碳化硅表面質量精度低和難于加工的特點,提出用磁流變直接加工碳化硅表面的工藝流程。采用自行研制的磁流變拋光機對Φ40×2mm的6H-SiC進行了拋光實驗研究。結果表明,直徑為40mm的碳化硅材料圓柱體,硅面經(jīng)過20min的磁流變粗拋,表面粗糙度Ra提升至5.9nm,亞表面破壞層深度降至35.764nm,經(jīng)過磁流變精拋和超精拋,表面粗糙度最終提升至0.5nm,亞表面破壞層深度降至1.4893nm,表面變得非常平坦,無劃痕。由此表明,所采用的工藝流程可以實現(xiàn)碳化硅表面的納米級拋光和非常小的亞表面破壞層深度。


本文所述技術未經(jīng)本網(wǎng)核實，請用戶自行審核，本網(wǎng)不對其真實性負責。
 
相關信息 更多>>
單晶碳化硅磁流變拋光工藝實驗研究2013-06-30
幾種異形碳化硅纖維制備及其吸波性能2013-06-30
聚碳硅烷粘結法低溫制備碳化硅多孔陶瓷2013-06-30
特高壓直流碳化硅晶閘管閥損耗探討2013-06-30
新型抗腐蝕材料——碳化硅/堇青石復合陶瓷材料2013-10-11
線切割對碳化硅微粉粒型和粒度的要求2013-12-10
 
我要評論
功能粉體
鈦白粉
氧化鐵顏料
珠光云母
白炭黑
炭黑
氧化鋁
粉煤灰
金屬硅
氧化鋅
碳化硅
氮化硅
硅灰
氫氧化鋁
鐵粉
鋁粉
銅粉
鋅粉
納米粉體
其他粉體技術
查看全部