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技術(shù)進展
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中科院在石榴石閃爍陶瓷研究中取得重要進展
來源:中國粉體技術(shù)網(wǎng)    更新時間:2017-01-19 10:22:21    瀏覽次數(shù):
 
  近日,中科院李江研究團隊通過“能帶工程”和“缺陷工程”對LuAG閃爍陶瓷中淺能級缺陷的濃度和陷阱深度進行調(diào)控,設(shè)計制備的LuYAG:Pr和LuAG:Ce,Mg閃爍陶瓷的光產(chǎn)額分別達到24400ph/MeV和25000ph/MeV。據(jù)研究團隊所知,這是國際范圍內(nèi)同類閃爍陶瓷所達到的最高光產(chǎn)額。
  作為閃爍探測器中的關(guān)鍵部件,閃爍材料廣泛應(yīng)用于高能物理、醫(yī)學(xué)成像以及油田勘探等領(lǐng)域。然而閃爍材料中的缺陷會因捕獲輸運過程中的載流子,延遲閃爍發(fā)光降低光產(chǎn)額,而最終影響閃爍探測器性能。
  李江研究團隊通過采用第一性原理計算,低溫?zé)後尮庖约巴捷椛涞燃夹g(shù)手段對材料中缺陷的存在形式和缺陷濃度進行表征。提出“能帶工程”和“缺陷工程”共同作用的機制,并設(shè)計制備閃爍陶瓷材料LuYAG:Pr和LuAG:Ce,Mg,成功抑制了材料中的淺能級缺陷,實現(xiàn)了材料綜合閃爍性能的提升。
  Y3+取代LuAG:Pr不同于一般的離子取代,Y3+與Lu3+離子半徑以及化學(xué)性質(zhì)等接近,取代后不會在禁帶中增加額外能級,而是導(dǎo)致禁帶寬度減少,并使得材料中以反位缺陷為主的淺能級缺陷濃度下降(見下圖)。

圖(a)理論計算LuAG能帶結(jié)構(gòu);(b)理論計算LuYAG能帶結(jié)構(gòu);
(c)Y3+取代作用機理示意圖

圖(a)理論計算LuAG能帶結(jié)構(gòu);(b)理論計算LuYAG能帶結(jié)構(gòu);
(c)Y3+取代作用機理示意圖
  
  低溫?zé)後尮獗砻鳎O(shè)計制備的材料中缺陷濃度大幅下降。光輸出衰減動力學(xué)測試結(jié)果顯示,材料中慢發(fā)光分量低于30%,光產(chǎn)額提高20%。Mg2+摻雜LuAG:Ce通過控制Ce4+/Ce3+比例,減少了電子陷阱缺陷在載流子輸運中的影響,使得材料光產(chǎn)額超過LuAG:Ce單晶50%。閃爍衰減測試表明材料中快發(fā)光分量達到60%。
  資料來源于上海硅酸鹽研究所。


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