武漢理工大學(xué)周超蘭等采用化學(xué)鍍法制備鈷包覆碳化硅復(fù)合粉末,通過研究化學(xué)鍍過程中鈷鹽濃度、還原劑濃度、絡(luò)合劑濃度、緩沖劑濃度、溫度以及pH值等因素對沉積速率的影響規(guī)律,得到化學(xué)鍍鈷的優(yōu)化條件。利用XRD、SEM和EDAX等測試手段對該復(fù)合粉末的組分及形貌進(jìn)行了表征。實(shí)驗(yàn)和表征結(jié)果表明,當(dāng)硫酸鈷濃度為30~50g/L,次磷酸鈉濃度為40g/L,檸檬酸鈉濃度為60~70g/L,控制溫度為50~70℃以及調(diào)節(jié)pH值等于8時,鍍層沉積速度較快,所得粉體表面被鈷均勻包覆。
本文所述技術(shù)未經(jīng)本網(wǎng)核實(shí),請用戶自行審核,本網(wǎng)不對其真實(shí)性負(fù)責(zé)。 |