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技術(shù)進展
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一文了解碳化硅的前世今生!
來源:中國粉體技術(shù)網(wǎng)    更新時間:2017-07-25 10:22:18    瀏覽次數(shù):
 
  碳化硅(SiC)是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑為原料通過電阻爐高溫冶煉而成。碳化硅在大自然也存在罕見的礦物,莫桑石。碳化硅又稱碳硅石。在當(dāng)代C、N、B等非氧化物高技術(shù)耐火原料中,碳化硅為應(yīng)用最廣泛、最經(jīng)濟的一種??梢苑Q為金鋼砂或耐火砂。
 
碳化硅

  一、碳化硅的前世今生
  碳化硅由于化學(xué)性能穩(wěn)定、導(dǎo)熱系數(shù)高、熱膨脹系數(shù)小、耐磨性能好,除作磨料用外,還有很多其他用途,例如:以特殊工藝把碳化硅粉末涂布于水輪機葉輪或汽缸體的內(nèi)壁,可提高其耐磨性而延長使用壽命1~2倍;用以制成的高級耐火材料,耐熱震、體積小、重量輕而強度高,節(jié)能效果好。低品級碳化硅(含SiC約85%)是極好的脫氧劑,用它可加快煉鋼速度,并便于控制化學(xué)成分,提高鋼的質(zhì)量。此外,碳化硅還大量用于制作電熱元件硅碳棒。
  碳化硅的硬度很大,莫氏硬度為9.5級,僅次于世界上最硬的金剛石(10級),具有優(yōu)良的導(dǎo)熱性能,是一種半導(dǎo)體,高溫時能抗氧化。
  
碳化硅歷程表
1905年 第一次在隕石中發(fā)現(xiàn)碳化硅
1907年 第一只碳化硅晶體發(fā)光二極管誕生
1955年 理論和技術(shù)上重大突破,LELY提出生長高品質(zhì)碳化概念,從此將SiC作為重要的電子材料
1958年 在波士頓召開第一次世界碳化硅會議進行學(xué)術(shù)交流
1978年 六、七十年代碳化硅主要由前蘇聯(lián)進行研究。到1978年首次采用“LELY改進技術(shù)”的晶粒提純生長方法
1987年~至今 以CREE的研究成果建立碳化硅生產(chǎn)線,供應(yīng)商開始提供商品化的碳化硅基。
  
  二、碳化硅器件的優(yōu)勢特性
  碳化硅(SiC)是目前發(fā)展最成熟的寬禁帶半導(dǎo)體材料,世界各國對SiC的研究非常重視,紛紛投入大量的人力物力積極發(fā)展,美國、歐洲、日本等不僅從國家層面上制定了相應(yīng)的研究規(guī)劃,而且一些國際電子業(yè)巨頭也都投入巨資發(fā)展碳化硅半導(dǎo)體器件。
  與普通硅相比,采用碳化硅的元器件有如下特性:
  
  高壓特性:
  碳化硅器件是同等硅器件耐壓的10倍
  碳化硅肖特基管耐壓可達2400V。
  碳化硅場效應(yīng)管耐壓可達數(shù)萬伏,且通態(tài)電阻并不很大。

 
碳化硅器件
  
  高頻特性:
碳化硅器件
    
  高溫特性:
  在Si材料已經(jīng)接近理論性能極限的今天,SiC功率器件因其高耐壓、低損耗、高效率等特性,一直被視為“理想器件”而備受期待。然而,相對于以往的Si材質(zhì)器件,SiC功率器件在性能與成本間的平衡以及其對高工藝的需求,將成為SiC功率器件能否真正普及的關(guān)鍵。

 
碳化硅器件

  目前,低功耗的碳化硅器件已經(jīng)從實驗室進入了實用器件生產(chǎn)階段。目前碳化硅圓片的價格還較高,其缺陷也多。通過不斷的研究開發(fā),預(yù)計到2010年前后,碳化硅器件將主宰功率器件的市場。但實際上并非如此。
  
  三、目前碳化硅器件發(fā)展情況如何?
  1、技術(shù)參數(shù):舉例來說,肖特基二極管電壓由250伏提高到1000伏以上,芯片面積小了,但電流只有幾十安。工作溫度提高到180℃,離介紹能達600℃相差很遠。壓降更不盡人意,與硅材料沒有差別,高的正向壓降要達到2V。
  2、市場價格:約為硅材料制造的5到6倍。
  
  四、碳化硅(SiC)器件發(fā)展中的難題在哪里?
  碳化硅器件發(fā)展中的難題不在芯片的原理設(shè)計,特別是芯片結(jié)構(gòu)設(shè)計解決好并不難。難在實現(xiàn)芯片結(jié)構(gòu)的制作工藝。
  舉例如下:
  1、碳化硅晶片的微管缺陷密度。
  2、外延工藝效率低。
  3、摻雜工藝有特殊要求。
  4、歐姆接觸的制作。
  5、配套材料的耐溫。
  以上僅舉數(shù)例,不是全部。還有很多工藝問題還沒有理想的解決辦法,如碳化硅半導(dǎo)體表面挖槽工藝、終端鈍化工藝、柵氧層的界面態(tài)對碳化硅MOSFET器件的長期穩(wěn)定性影響方面,行業(yè)中還有沒有達成一致的結(jié)論等,大大阻礙了碳化硅功率器件的快速發(fā)展。
  
  五、碳化硅主要應(yīng)用領(lǐng)域的發(fā)展概況
  目前,第3代半導(dǎo)體材料正在引起清潔能源和新一代電子信息技術(shù)的革命,無論是照明、家用電器、消費電子設(shè)備、新能源汽車、智能電網(wǎng)、還是軍工用品,都對這種高性能的半導(dǎo)體材料有著極大的需求。根據(jù)第3代半導(dǎo)體的發(fā)展情況,其主要應(yīng)用為半導(dǎo)體照明、電力電子器件、激光器和探測器、以及其他4個領(lǐng)域。
  1、半導(dǎo)體照明
  在4個應(yīng)用領(lǐng)域中,半導(dǎo)體照明行業(yè)發(fā)展最為迅速,已形成百億美元的產(chǎn)業(yè)規(guī)模。
  2、電力電子器件
  在電力電子領(lǐng)域,寬禁帶半導(dǎo)體的應(yīng)用剛剛起步,市場規(guī)模僅為幾億美元。其應(yīng)用主要集中在軍事尖端裝備領(lǐng)域,正逐步向民用領(lǐng)域拓展。
  3、激光器和探測器
  在激光器和探測器應(yīng)用領(lǐng)域,GaN基激光器可以覆蓋到很寬的頻譜范圍,實現(xiàn)藍、綠、紫外激光器和紫外探測的制造。
  4、其他應(yīng)用
  在前沿研究領(lǐng)域,寬禁帶半導(dǎo)體可用于太陽能電池、生物傳感器、水制氫媒介、及其他一些新興應(yīng)用,目前這些熱點領(lǐng)域還處于實驗室研發(fā)階段。
  
  資料來源:北京新材料發(fā)展中心
獨家編輯整理:中國粉體技術(shù)網(wǎng)(轉(zhuǎn)載請聯(lián)系授權(quán),未經(jīng)允許禁止轉(zhuǎn)載,摘錄,鏡像等操作)


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